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HFJC600-II型磁控濺射真空鍍膜機

（應用于各種電學膜、金屬膜和SiO₂膜等的設(shè)備）

真空室：臥式頂蓋升降。內(nèi)腔Φ600×700mm，,304不銹鋼

真空系統(tǒng)：直聯(lián)泵+F250分子泵

極限真空：3.0E^-4pa

恢復真空：大氣至4.0E^-3pa≤15min

烘烤：鹵鎢燈，最高溫度350℃，可調(diào)可控

靶源：4個Φ80靶，DC或RF（13.56MHz）電源，1.5KW可調(diào)

充氣系統(tǒng)：2路流量控制

工件機構(gòu)：公自轉(zhuǎn)機構(gòu)，3個Φ70樣品盤；公轉(zhuǎn)速度1-30rpm，自轉(zhuǎn)1-120rpm，可控可調(diào)

操作系統(tǒng)：可自動和手動操作，工藝參數(shù)設(shè)置，完善的水電檢測報警功能