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HF-1300型箱式真空鍍膜機(jī)

真空室:立式前開門。內(nèi)膜Φ1300×1500,,304不銹鋼;外壁通冷卻水,內(nèi)襯不銹鋼防污板

真空系統(tǒng):機(jī)械泵+羅茨泵+2臺(tái)擴(kuò)散泵+維持泵

極限真空:3.0E-4pa

恢復(fù)真空:大氣至4.0E-3pa≤15min

工作架:Φ1220mm帽形工件盤等,扇形,行星

烘烤:采用進(jìn)口管狀加熱器;最高溫度350℃,可調(diào)可控

蒸發(fā)源:電阻蒸發(fā)源,2E型電子槍

離子源:Φ12cm考夫曼(可選),進(jìn)口

光學(xué)膜厚控制:光學(xué)專用電源;光學(xué)膜厚控制儀;光柵單色儀;波長(zhǎng)范圍380-1100nm;反射/透射

石英晶控:SQC310IC6,低溫單探頭等

電源:3相,380V50Hz,約60KW

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